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软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究
引用本文:徐向东,洪义麟,田扬超,霍同林,周洪军,陶晓明,傅绍军.软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究[J].微细加工技术,2001(3):22-25.
作者姓名:徐向东  洪义麟  田扬超  霍同林  周洪军  陶晓明  傅绍军
作者单位:中国科学技术大学
摘    要:在简述软X射线的自支撑透射光栅制作工艺的基础上,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺,紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小,厚度减薄,比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果,结果表明低的温度和电流密度(40℃,1.5mA/cm^2)下的镀膜致密,光滑,应力小,对光栅结构无任何影响,高的温度和电流密度(47℃,5.6mA/cm^2)下的镀膜相对粗糙,应力大,造成光栅线条的扭曲,并拢,甚至拉断光栅线条。

关 键 词:全息光刻  透射光栅  软X射线  微电镀  制作工艺
文章编号:1003-8213(2001)03-0022-04
修稿时间:2000年10月24

Fabrication of Support Structure for Soft X-ray Transmission Gratings
XU Xiang-dong,HONG Yi-lin,TIAN Yang-chao,HUO Tong-lin,ZHOU Hong-jun,TAO Xiao-ming,FU Shao-jun.Fabrication of Support Structure for Soft X-ray Transmission Gratings[J].Microfabrication Technology,2001(3):22-25.
Authors:XU Xiang-dong  HONG Yi-lin  TIAN Yang-chao  HUO Tong-lin  ZHOU Hong-jun  TAO Xiao-ming  FU Shao-jun
Abstract:
Keywords:Holographic lithography  Transmission grating  Microelectroplating
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