| 不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长 |
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| 引用本文： | 赵春雷,杨小天,王超,唐魏,杨佳,高晓红.不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长[J].液晶与显示,2010,25(5). |
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| 作者姓名： | 赵春雷 杨小天 王超 唐魏 杨佳 高晓红 |
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| 作者单位： | 吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021 |
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| 基金项目： | 教育部优秀人才支持计划项目，国家自然科学基金项目，长春市科学技术局项目，吉林省教育厅"十一五"科学技术研究计划项目 |
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| 摘 要： | 采用金属有机化学气相沉积方法,在不同氧气分压下,对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究。X-射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试。测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长。利用光荧光谱测试分析,对薄膜的发光特性做了研究,研究发现随着氧气分压增大,薄膜的紫外发光峰增强。通过原子力显微镜测试,对薄膜的表面形貌做了观察,发现结晶颗粒的平均粗糙度、均方根,以及平均直径随着氧气分压的增大呈现逐渐变小的趋势。
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| 关 键 词： | 氧化锌 薄膜 |
Zinc Oxide Films Growth by MOCVD Under Different Oxygen Partial Pressures |
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| ZHAO Cun-lei,YANG Xiao-tian,WANG Chao,TANG Wei,YANG Jia,GAO Xiao-hong.Zinc Oxide Films Growth by MOCVD Under Different Oxygen Partial Pressures[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2010,25(5). |
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| Authors: | ZHAO Cun-lei YANG Xiao-tian WANG Chao TANG Wei YANG Jia GAO Xiao-hong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MOCVD |
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