| X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响 |
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| 引用本文： | 马颖,韩薇,张方辉.X射线衍射分析热处理温度对透明导电膜结构与导电性能的影响[J].液晶与显示,2005,20(4):314-317. |
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| 作者姓名： | 马颖 韩薇 张方辉 |
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| 作者单位： | 1. 陕西科技大学,电气与电子工程学院,陕西,咸阳,712081
2. 西安电力电子技术研究所,陕西,西安,710061 |
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| 基金项目： | 陕西省教育厅基金资助项目(No.03JK161)，陕西科技大学基金资助项目(No.ZX04-34) |
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| 摘 要： | 采用溶胶一凝胶法以铟、锡氯化物为前驱物制备不同热处理温度下的ITO膜，对制备的ITO膜样品进行X射线衍射分析。研究表明热处理温度对ITO膜的衍射峰相对强度、晶粒尺寸和晶格常数有较大的影响，随着热处理温度的增加，ITO膜随机取向增加，晶粒增大，晶格常数在400℃时畸变最小。热处理温度为450℃时ITO膜的择优取向较弱，晶粒较大，晶格畸变较小，ITO膜的方阻最小。
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| 关 键 词： | ITO膜 热处理温度 X射线衍射分析 溶胶-凝胶法 |
| 文章编号： | 1007-2780(2005)04-0314-04 |
| 修稿时间： | 2005年4月4日 |
Effects of Annealing Temperature on the Structure and Sheet Resistance of ITO Films with X-ray Diffraction Techniques |
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| MA Ying,HAN Wei,ZHANG Fang-hui.Effects of Annealing Temperature on the Structure and Sheet Resistance of ITO Films with X-ray Diffraction Techniques[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2005,20(4):314-317. |
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| Authors: | MA Ying HAN Wei ZHANG Fang-hui |
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| Affiliation: | MA Ying~1,HAN Wei~2,ZHANG Fang-hui~1 |
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| Keywords: | ITO films annealing temperature XRD sol-gel method |
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