| 用正交试验设计改善ITO＆CF基板的清洗效果 |
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| 引用本文： | 张金龙,荆海,马凯.用正交试验设计改善ITO＆CF基板的清洗效果[J].液晶与显示,2006,21(5):521-526. |
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| 作者姓名： | 张金龙 荆海 马凯 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所北方液晶工程研究开发中心 吉林长春130031 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No.60576056) |
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| 摘 要： | 分析了ITO及CF玻璃基板表面污染的主要类型为有机物污渍和灰尘颗粒,污染主要来源于产品制作、包装、转运过程。利用正交试验设计法找出影响清洗效果的主要因素是清洗液浓度和超声清洗条件,并确定最优因素水平组合。优化后工艺条件应用于生产实践,测得接触角小于5°,灰尘粒子数平均少于6个;使线间隙≥8.0μm的CSTN-LCD产品生产良品率提高2.85%。
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| 关 键 词： | CSTN-LCD 正交试验设计 有机污渍 灰尘颗粒 超声清洗 接触角 |
| 文章编号： | 1007-2780(2006)05-0521-06 |
| 修稿时间： | 2006年3月27日 |
Improvement of Cleaning ITO&CF Substrate Surface by Orthogonal Experiment Design |
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| ZHANG Jin-long,JING Hai,MA Kai.Improvement of Cleaning ITO&CF Substrate Surface by Orthogonal Experiment Design[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2006,21(5):521-526. |
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| Authors: | ZHANG Jin-long JING Hai MA Kai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CSTN-LCD orthogonal experiment design greasy filth particle ultrasonic cleaning condition contact angle |
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