影响全息光刻图形质量的因素 |
| |
引用本文: | 陈芬,周亚训,冯伯儒,张锦.影响全息光刻图形质量的因素[J].半导体学报,2003,24(12). |
| |
作者姓名: | 陈芬 周亚训 冯伯儒 张锦 |
| |
作者单位: | 1. 宁波大学信息科学与工程学院,宁波,315211;宁波大学光纤通信与网络技术研究所,宁波,315211 2. 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209 |
| |
基金项目: | 国家自然科学基金,国家重点实验室基金 |
| |
摘 要: | 使用矩阵转换方法,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算,讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对光刻图形质量的影响,并找出了影响图形质量的主要因素.在此基础上设计了实验系统,最后得到了分辨率基本上只受初始光掩模分辨率限制的光刻图形.
|
关 键 词: | 全息光刻 衍射效率 光刻 |
Factors of Affecting Patterning Quality in Holographic Lithography |
| |
Abstract: | |
| |
Keywords: | |
本文献已被 万方数据 等数据库收录! |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|