| 沉积温度对反应电子束蒸发TiO2薄膜结构和光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨陈,樊慧庆,惠迎雪.沉积温度对反应电子束蒸发TiO2薄膜结构和光学性能的影响[J].红外与激光工程,2006,35(Z2). |
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| 作者姓名： | 杨陈 樊慧庆 惠迎雪 |
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| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研项目;新世纪人才计划项目 |
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| 摘 要： | TiO2具有较高的折射率,在光学方面有着广泛的应用.文中采用等离子辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料、纯度为99.99%的O2为反应气体,在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.使用XRD、OM、SEM分别对50℃、150℃、300℃三个不同沉积温度下制备的薄膜及其经过450℃真空退火1 h后的结构进行了分析,并对薄膜的折射率进行测量.实验结果表明,提高沉积温度可以增加成膜原子的能量及其在衬底上的扩散能力,使沉积的薄膜结构平整致密,具有较高的折射率.
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 电子束蒸发 沉积温度 薄膜结构 光学性质 |
Effect of deposition temperature on structure and optical property of TiO2 film prepared by reactive electron beam evaporation |
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| YANG Chen,FAN Hui-qing,HUI Ying-xue.Effect of deposition temperature on structure and optical property of TiO2 film prepared by reactive electron beam evaporation[J].Infrared and Laser Engineering,2006,35(Z2). |
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| Authors: | YANG Chen FAN Hui-qing HUI Ying-xue |
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