10.6 μm激光对红外成像系统干扰特性研究 |
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引用本文: | 荆卫国,田超,王红培,孙明昭.10.6 μm激光对红外成像系统干扰特性研究[J].激光与红外,2019,49(4):497-502. |
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作者姓名: | 荆卫国 田超 王红培 孙明昭 |
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作者单位: | 中国人民解放军63870部队,陕西 华阴 714200 |
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摘 要: | 针对10.6 μm激光照射某型红外成像系统所产生的干扰效应开展研究。运用ABCD矩阵变换法实现了激光在红外光学系统每个物镜前后和激光到达探测器表面的功率密度计算;通过研究10.6 μm激光对红外成像系统的作用机理,深入分析了激光照射下红外光学玻璃、红外探测器的温升效应,揭示了激光对红外成像系统图像干扰效应的一般规律;搭建了10.6 μm激光作用红外成像系统试验测试平台,验证了激光照射对光学材料的温升效应、激光照射过程中红外图像的响应特征和不同强度激光照射下的红外图像干扰和饱和效应。
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关 键 词: | 10.6 μm激光 红外成像系统 干扰效应 |
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