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| 1.06μm 45°高反射膜的研制 | |
| 引用本文： | 李庆国,杜世高.1.06μm 45°高反射膜的研制[J].激光与红外,1987(1). |
| 作者姓名： | 李庆国 杜世高 |
| 作者单位： | 中科院上海光机所，中科院上海光机所 |
| 摘 要： | 用TiO_2-SiO_2多层膜制备的1.06μm45°高反射膜,反射率可达99.7％.激光损伤阈值为20GW/cm~2,在大型激光等离子体装置上已使用多年,效益显著,是一种较理想的强激光薄膜。 |
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