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| 面向45纳米制造工艺的技术研究 | |
| 引用本文： | 高腾.面向45纳米制造工艺的技术研究[J].集成电路应用,2003(7):49-51. |
| 作者姓名： | 高腾 |
| 作者单位： | 比利时IMEC微电子研究中心 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 集成电路 45纳米制造工艺 157纳米深紫外线光刻 极深紫外线光刻 高迁移率膜 金属栅极 CMOS器件 互连 清洗 杂质控制 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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