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离子注入工艺简介
引用本文：蔡宁,张伯昌.离子注入工艺简介[J].集成电路应用,2002(6):71-72.
作者姓名：蔡宁  张伯昌
作者单位：亚舍立半导体贸易（上海）有限公司200122
摘    要：
关 键 词：离子注入工艺  沟道掺杂  井区掺杂  多晶硅注入  源漏区注入
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