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铁电厚膜焦平面探测器微桥湿法刻蚀工艺研究
引用本文:范茂彦,姜胜林,张丽芳.铁电厚膜焦平面探测器微桥湿法刻蚀工艺研究[J].红外技术,2011,33(5):296-300,308.
作者姓名:范茂彦  姜胜林  张丽芳
作者单位:1. 华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;昆明物理研究所,云南,昆明,650223;玉溪师范学院信息技术工程学院,云南,玉溪,653100
2. 华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
3. 玉溪师范学院信息技术工程学院,云南,玉溪,653100
基金项目:国家自然科学基金委员会基金资助项目,国家"八六三"基金资助项目
摘    要:为了制备高性能铁电厚膜红外探测器,对硅材料的各向异性腐蚀机理及特性进行了探讨,开展了(100)硅片湿法各向异性腐蚀工艺研究.研究KOH摩尔比、腐蚀温度对si基片腐蚀特性的影响.在KOH与IPA混合腐蚀液腐蚀系统中,氢气泡可以快速的脱离硅表面,使得硅表面的形貌得到改善.结果表明:Si(100)面的腐蚀速度随着腐蚀液浓度和...

关 键 词:非制冷红外焦平面阵列  微桥  光刻  各向异性腐蚀  腐蚀装置

Research on Wet Etching of Microbridge for Ferroelectric Thick Film Focal Plane Detector
FAN Mao-yan,JIANG Sheng-lin,ZHANG li-fang.Research on Wet Etching of Microbridge for Ferroelectric Thick Film Focal Plane Detector[J].Infrared Technology,2011,33(5):296-300,308.
Authors:FAN Mao-yan  JIANG Sheng-lin  ZHANG li-fang
Abstract:
Keywords:
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