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| 等离子体辅助电子束蒸发低温制备SiO2纳光子薄膜 | |
| 引用本文： | 盛明裕,赵源,刘富强,胡巧多,郑玉祥,陈良尧.等离子体辅助电子束蒸发低温制备SiO2纳光子薄膜[J].红外与毫米波学报,2011,30(3):237-241. |
| 作者姓名： | 盛明裕 赵源 刘富强 胡巧多 郑玉祥 陈良尧 |
| 作者单位： | 1. 复旦大学,光科学与工程系,上海200433;上海商学院,电子信息系,上海200235 2. 复旦大学,光科学与工程系,上海200433;上海第二工业大学,信息显示与光电技术系,上海201209 3. 上海商学院,电子信息系,上海200235 4. 复旦大学,光科学与工程系,上海200433 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目（面上项目，重点项目，重大项目） |
| 摘 要： | SiO2纳光子薄膜在光伏领域、纳光子和微电子学领域里有着广泛的应用.采用等离子体辅助电子束蒸发方法在低温条件下制备SiO2/Si纳光子薄膜样品,通过椭圆偏振光谱分析法研究薄膜光学性质随3种工艺条件(生长速率、衬底温度和射频等离子辅助功率)的变化规律,获得了薄膜的机械、化学和光学性能优于传统方法的纳光子薄膜工艺制备条件. |
| 关 键 词： | 等离子体辅助 电子束蒸发 纳光子薄膜 |
| 收稿时间： | 9/10/2010 2:50:34 PM |
| 修稿时间： | 2010/10/26 0:00:00 |
Low-temperature deposition of SiO2 nanophotonic film |
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| SHENG Ming-Yu,ZHAO Yuan,LIU Fu-Qiang,HU Qiao-Duo,ZHENG Yu-Xiang and CHEN Liang-Yao.Low-temperature deposition of SiO2 nanophotonic film[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2011,30(3):237-241. | |
| Authors: | SHENG Ming-Yu ZHAO Yuan LIU Fu-Qiang HU Qiao-Duo ZHENG Yu-Xiang and CHEN Liang-Yao |
| Affiliation: | SHANGHAI BUSINESS SCHOOL,SHANGHAI SECOND POLYTECHNIC UNIVERSITY,Shanghai Business School,Shanghai Business School,FUDAN UNIVERSITY,FUDAN UNIVERSITY |
| Abstract: | |
| Keywords: | plasma assistant electron beam evaporation nanophotonic film |
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