| 脉冲腐蚀法制备多孔硅及其光学特性研究 |
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| 引用本文： | 李志全,乔淑欣,蔡亚楠,张冉.脉冲腐蚀法制备多孔硅及其光学特性研究[J].大气与环境光学学报,2006,1(2):151-154. |
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| 作者姓名： | 李志全 乔淑欣 蔡亚楠 张冉 |
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| 作者单位： | 燕山大学仪器科学与工程系,河北,秦皇岛,066004 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;河北省博士科研项目 |
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| 摘 要： | Labview软件控制腐蚀条件，用脉冲电化学腐蚀法制备多孔硅薄膜，其表面形貌用原子力显微镜观察并分析。用可见-紫外分光光度仪测量其反射谱，通过计算得出各种制备条件下，多孔硅薄膜的其它光学参数，即有效折射率neff，吸收系数α，有效介电常数的实部εer，和虚部εei，消光系数K,研究了入射光波长和孔隙率对这些光学常数的影响。
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| 关 键 词： | 多孔硅 脉冲腐蚀法 原子力显微镜 表面形貌 光学常数 |
| 文章编号： | 1673-6141(2006)02-0151-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-21 |
| 修稿时间： | 2005年8月21日 |
Porous Silicon Fabricated by Pulsed Etching Method and its Optical Properties |
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| LI Zhi-quan,QIAO Shu-xin,CAI Ya-nan,ZHANG Ran.Porous Silicon Fabricated by Pulsed Etching Method and its Optical Properties[J].Journal of Atmospheric and Environmental Optics,2006,1(2):151-154. |
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| Authors: | LI Zhi-quan QIAO Shu-xin CAI Ya-nan ZHANG Ran |
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| Affiliation: | Department of Instrument Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | porous silicon pulsed etching method atomic force microscopy surface morphologies optical constants |
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