| LPCVD设备的高精度串级温度控制系统 |
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| 引用本文： | 宋玲,廖炼斌,张勇,罗卫国. LPCVD设备的高精度串级温度控制系统[J]. 电子工业专用设备, 2006, 35(4): 35-38 |
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| 作者姓名： | 宋玲 廖炼斌 张勇 罗卫国 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南,长沙,410111 |
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| 摘 要： | 在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响。主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h。
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| 关 键 词： | LPCVD 串级控制 温度控制 |
| 文章编号： | 1004-4507(2006)04-0035-04 |
| 收稿时间： | 2006-03-10 |
| 修稿时间： | 2006-03-10 |
Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment |
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| SONG Ling,LIAO lian-bin,ZHANG Yong,LUO Wei-guo. Cascade Temperature Control with High Accuracy in LPCVD Equipment[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2006, 35(4): 35-38 |
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| Authors: | SONG Ling LIAO lian-bin ZHANG Yong LUO Wei-guo |
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| Abstract: | Temperature is one of the most important parameters in the most semiconductor process. The uniformity and stability of furnace temperature have essential influence on the LPCVD process. This paper introduces the cascade temperature control with high accuracy in the LPCVD equipment. This system is simple in structure and good control result that its stability of temperature is not more than± 0.5 ℃/24 h. |
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| Keywords: | LPCVD Cascade Control Temperature Control |
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