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| 用于5英寸硅片的掩模对准技术 | |
| 引用本文： | 百漱克己,奥津和久,吉成秀树,丁天怀.用于5英寸硅片的掩模对准技术[J].电子工业专用设备,1979(1). |
| 作者姓名： | 百漱克己 奥津和久 吉成秀树 丁天怀 |
| 作者单位： | 清华大学精仪系 |
| 摘 要： | 在新兴的集成电路技术中技术革新搞得很快,而且经济效果也很显著。由于硅片尺寸的增大以及图形尺寸的微细化引起了集成度的不断提高,这就提出了降低器件成本的问题,当然这些革新成果必然为各厂家所注目。我们在本文中介绍一下:卡诺PLA—500FA型掩模对准仪,该仪器能很经济地制做2μ宽线条的器件。在这种仪器中,接近式、软接触式及接触式光刻可用一个开关来转换,而且可以根据图形所要求的分辨率来选择光刻形式。另外,由于仪器附有远紫 |
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