用 M500型全视场投影装置制作 NMOS 器件工艺时的全自动对准

为了检验 Pcrkin—Flmer 公司的具有自动对准和自动放大校正功能的500型全视场掩模投影光刻机的性能,我们用各种尺寸的片子对其进行了不同的测验。其模拟测试也是尽可能采用接近 NMOS 片子工艺的方法。其结果证明在5英寸的片子上该光刻机完全可以获得优于±0.25微米(2σ)的全视场对准精度。