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半导体片子清洗技术及设备
引用本文:杨顺.半导体片子清洗技术及设备[J].电子工业专用设备,1996,25(4):1-6.
作者姓名:杨顺
作者单位:电子工业部第13研究所
摘    要:本文概述了在IC制造中,半导体片子清洗的重要性、发展历史和现状。对湿法清洗与干法清洗进行比较,并着重介绍清洗技术和设备的发展趋势。

关 键 词:污染,沾污,超微粒子,组合加工设备
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