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| 湿法刻蚀提高硅刻蚀均匀性技术研究 | |
| 引用本文： | 祝福生,夏楠君,赵宝君,黄鑫亮,王文丽.湿法刻蚀提高硅刻蚀均匀性技术研究[J].电子工业专用设备,2019,48(5). |
| 作者姓名： | 祝福生 夏楠君 赵宝君 黄鑫亮 王文丽 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601;中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,101601 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 湿法刻蚀 各向同性刻蚀 各向异性刻蚀 刻蚀均匀性 |
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