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采用缓变In_xGa_(1-x)As沟道的高性能δ掺杂GaAs/In_xGa_(1-x)As PHEMT
引用本文:曲兰欣.采用缓变In_xGa_(1-x)As沟道的高性能δ掺杂GaAs/In_xGa_(1-x)As PHEMT[J].固体电子学研究与进展,1994(3).
作者姓名:曲兰欣
摘    要:采用缓变In_xGa_(1-x)As沟道的高性能δ掺杂GaAs/In_xGa_(1-x)As PHEMT近来,InxGa;-xAs三元合金已被公认为高电子迁移率晶体管有前途f的沟道材料,因为它的有效质量较小,F一L间隙较大。据((IEE.D.L.)199...

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