| 氧化物靶材的制备及研究进展 |
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| 引用本文： | 付钰斌,宁洪龙,邹文昕,吴振宇,张康平,郭晨潇,刘丁荣,侯明玥,姚日晖,彭俊彪.氧化物靶材的制备及研究进展[J].材料研究与应用,2022,16(3):362-368. |
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| 作者姓名： | 付钰斌 宁洪龙 邹文昕 吴振宇 张康平 郭晨潇 刘丁荣 侯明玥 姚日晖 彭俊彪 |
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| 作者单位： | 华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室，高分子光电材料与器件研究所，广东 广州 510641 |
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| 基金项目： | 广东省重点领域研发计划项目（2020B010183002）；国家自然科学基金项目（62174057， 62074059，22090024） ；广东省基础与应用基础研究重大项目（2019B030302007）；中央高校基本科研业务费专项资金项目（2020ZYGXZR060）；2021年广东省科技创新战略专项资金（“大专项＋任务清单”）项目（210908174533730 ）；2021年广东大学生科技创新培育专项资金项目（“攀登计划”专项资金pdjh2021b0036）；大学生创新创业训练计划项目（S202110561184）；季华实验室自主立项项目 （X190221TF191） |
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| 摘 要： | 氧化物靶材是一种关键性镀膜基材，主要用于磁控溅射制备TFT薄膜，并将其应用于晶体管等器件中透明电极、半导体沟道层，同时也广泛应用于显示面板领域。为满足高性能器件对薄膜的要求，氧化物靶材逐渐向高致密、大尺寸、异形化方向发展。以显示行业中氧化物靶材作为重点，介绍了氧化物靶材制备流程，主要从素坯成型、烧结工艺两个角度对氧化物靶材进行总结，分析了烧结工艺对靶材参数与溅射薄膜电阻率、光学透射率及粗糙度等方面的影响，最后阐述了国内外氧化物靶材市场的现状及发展趋势。
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| 关 键 词： | 氧化物 溅射靶材 成型 烧结 薄膜 |
| 收稿时间： | 2022/4/15 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2022/6/4 0:00:00 |
Research Progress of Preparation and Application of Oxide Targets |
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| FU Yubin,NING Honglong,ZOU Wenxin,WU Zhenyu,ZHANG Kangping,GUO Chenxiao,LIU Dingrong,HOU Mingyue,YAO Rihui,PENG Junbiao.Research Progress of Preparation and Application of Oxide Targets[J].Journal of Guangdong Non-Ferrous Metals,2022,16(3):362-368. |
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| Authors: | FU Yubin NING Honglong ZOU Wenxin WU Zhenyu ZHANG Kangping GUO Chenxiao LIU Dingrong HOU Mingyue YAO Rihui PENG Junbiao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | oxide sputtering target forming sintering thin film |
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