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| 微等离子体氧化技术的研究进展 | |
| 引用本文： | 王力霞,李延刚,李淑华.微等离子体氧化技术的研究进展[J].有色金属,2009,61(3). |
| 作者姓名： | 王力霞 李延刚 李淑华 |
| 作者单位： | 1. 大庆石油学院机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318 2. 中石化中原油田石化总厂,河南,濮阳,457165 |
| 摘 要： | 微等离子体氧化技术是一种直接在铝、镁、钛等有色金属表面原位生长陶瓷膜层的材料表面改性技术.介绍微等离子体氧化技术的发展历史及研究现状,讨论应用微等离子体氧化技术制备陶瓷膜的基本原理和制备方法以及膜层生长速度和性栽能的影响因素,并从专利技术和国家自然科学基金资助等方面对微等离子体氧化技术的研究重点和方向进行综述. |
| 关 键 词： | 金属材料 微等离子体氧化 综述 表面改性 陶瓷膜层 |
Research Development of Micro Plasma Oxidation Technology |
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