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| 中频反应溅射TiO2膜层的性能 | |
| 引用本文： | 罗建军.中频反应溅射TiO2膜层的性能[J].钛工业进展,1999,16(5):32-33. |
| 作者姓名： | 罗建军 |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | TiO2是一种应用广泛的高折射率膜层，在可见光范围内是透明的，具有良好的机械性能和化学稳定性。它的存在形式有非晶态和三种晶体结构形态（金红石、锐钛矿和板钛矿）。金红石结构最稳定，折射率和硬度最高。真空蒸镀是制备小规格TiO2膜层最好的沉积方法，如透镜或眼镜片的抗反射膜。磁控管溅射可以保证宽度近4m膜层的均匀性，已经成为大规格膜层的主要制备方法，但是这种方法沉积率非常低，难以实用。采用双磁控管技术配合以40kHZ的中频电源，可使TiO2膜层的沉积速率大幅度提高。1试样的制备试样在装有载荷锁定装置的LeyboldA400溅射… |
| 关 键 词： | 二氧化钛 膜层 真空蒸镀 性能 中频反应溅射 |
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