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高频等离子体化学气相沉积法制氮化硅超细粉的工艺研究
引用本文:洪若瑜,李春忠.高频等离子体化学气相沉积法制氮化硅超细粉的工艺研究[J].化工冶金,1996,17(3):273-277.
作者姓名:洪若瑜  李春忠
作者单位:[1]中国科学化式冶金研究所多相反应开放研究实验室 [2]华东理工大学技术化学物理所
摘    要:

关 键 词:超细粉  氮化硅  高频  等离子体  化学气相沉积
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