ICP-MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量 |
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作者姓名: | 徐远志 张云晖 |
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作者单位: | 云南冶金云芯硅材股份有限公司;云南省光电子硅材料制备技术企业重点实验室 |
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摘 要: | 使用硝酸、氢氟酸、过氧化氢和水的混合溶液浸取多晶硅表面金属杂质,无需赶尽氢氟酸,采用配备耐氢氟酸惰性进样系统的ICP-MS直接测定多晶硅产品中钠、铝、钾、铁、铬、镍、铜和锌8种表面金属杂质含量,结果表明该方法具有简便、快速、准确等特点,加标回收率为84.0%~110.6%,相对标准偏差(RSD)为3.79%~11.96%,检出限为0.003 ng/g~0.018 ng/g。
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