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| 一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功 | |
| 引用本文： | 刘跃.一种钕含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功[J].稀土,2014(6):88. |
| 作者姓名： | 刘跃 |
| 摘 要： | 正由日本国立材料研究所Kazuhire Hono博士领衔的课题组合成了一种新型磁性化合物,其钕含量比目前流行的钕铁硼低。这种新型磁性化合物化学式为NdF e12N,钕含量17%,而钕铁硼的钕含量为27%,但前者的内禀硬磁性能高于后者。尤其值得注意的是,这种新型磁性化合物的居里温度比钕铁硼高200度。在以往稀土磁体研究中曾出现过化学式为NdF e11TiN的磁性化合物,钛虽然是非磁性的,但加入钛才能使该化合物保持稳定,但正 |
| 关 键 词： | 磁性化合物 钕铁硼 稀土磁体 课题组合 材料研究所 居里温度 合成步骤 研究工作 |
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