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直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能
引用本文:张德秋,李慕勤,王晶彦,吴明忠,侯义飞.直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能[J].广东化工,2016(21).
作者姓名:张德秋  李慕勤  王晶彦  吴明忠  侯义飞
作者单位:佳木斯大学黑龙江省高校生物医学材料重点实验室,黑龙江佳木斯,154007
基金项目:国家自然科学基金项目(31370979),黑龙江省高校生物医学材料重点实验室2012年度开放课题(YX12002),佳木斯大学科学技术面上项目(L2013-073),佳木斯大学大学生科技创新项目(XSlz2016-06)
摘    要:通过固定N层和Ti N层的沉积时间,改变Ti层沉积时间,在AZ31镁合金表面采用直流磁控溅射技术制备N-Ti-Ti N镀膜,研究镀钛时间对N-Ti-Ti N镀膜的形貌、腐蚀性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、能谱仪等手段分析镀膜的表面形貌和成分,通过动电位极化试验,研究镀膜的耐蚀性。结果表明:改变不同镀钛时间获得的N-Ti-Ti N镀膜的厚度在1~1.4μm之间,镀膜分布均匀,随着镀钛膜沉积时间的增加镀膜的厚度增加,膜间结合性好;与镁合金基体相比,不同镀钛时间的N-Ti-Ti N镀膜均能提高材料的耐蚀性,镀钛时间为20 min的N-Ti-Ti N镀膜的耐蚀性更为优异。

关 键 词:直流磁控溅射  N-Ti-TiN镀膜  腐蚀性能

Corrosion Resistance of N-Ti-TiN Film Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering
Abstract:
Keywords:
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