| 半导体多相光催化氧化技术 |
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| 引用本文： | 王红娟,李忠.半导体多相光催化氧化技术[J].现代化工,2002,22(2):56-60. |
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| 作者姓名： | 王红娟 李忠 |
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| 作者单位： | 华南理工大学化工学院,广州,510641 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (2 0 1 760 1 2 )，中法先进研究计划项目 (PRAE 0 1 0 1 ) |
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| 摘 要： | 阐述了半导体多相光催化氧化的特点、机理及其应用 ,总结了半导体光催化剂的种类、制备。指出了设计光催化反应器所要考虑的主要方面 ,对影响光催化反应的因素进行了简要分析。
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| 关 键 词： | 半导体 多相 光催化 氧化 |
| 修稿时间： | 2001年10月15 |
Heterogenous photocatalytic oxidation technology for semicondu ctors |
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| WANG Hong-juan,LI Zhong.Heterogenous photocatalytic oxidation technology for semicondu ctors[J].Modern Chemical Industry,2002,22(2):56-60. |
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| Authors: | WANG Hong-juan LI Zhong |
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| Abstract: | Features,mechanisms and applications of heterogenous photocatalytic oxidation for semiconductors were described.Types and preparation methods of photocatalysts were introduced.Considerations in designing photocatalytic reactors were pointed out.Factors affecting photocatalytic oxidation were also analyzed. |
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| Keywords: | semiconductor heterogenous photocatalysis oxidation |
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