脉冲电流密度对纳米晶镍镀层结构及性能的影响 |
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引用本文: | 朴楠,陈吉,孙彦伟,许志显,陈晓明,韩啸.脉冲电流密度对纳米晶镍镀层结构及性能的影响[J].电镀与环保,2016(2):4-7. |
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作者姓名: | 朴楠 陈吉 孙彦伟 许志显 陈晓明 韩啸 |
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作者单位: | 1. 辽宁石油化工大学机械工程学院石油化工过程腐蚀与防护技术中心,辽宁抚顺,113001;2. 甘肃蓝科石化高新装备股份有限公司,甘肃兰州,730000 |
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基金项目: | 辽宁省自然科学基金(201202127),辽宁省高等学校杰出青年学者成长计划项目(LJQ2011033) |
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摘 要: | 采用脉冲电沉积方法在黄铜基体上制备出致密、平整的纳米晶镍镀层。研究了脉冲电流密度对镀镍层的微观结构、硬度及耐蚀性的影响。结果表明:当脉冲电流密度为5A/dm~2时,镀镍层为(200)晶面择优;当脉冲电流密度增至10A/dm~2时,镀镍层变为(111)晶面择优;当脉冲电流密度继续增至20A/dm~2和30A/dm~2时,镀镍层变为(111)、(200)双向择优。随着脉冲电流密度的增大,镀镍层的晶粒尺寸略微减小,硬度逐渐增大,在3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性下降。脉冲电流密度为5A/dm~2时所得镀镍层的耐蚀性最好。
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关 键 词: | 纳米晶镍镀层 脉冲电沉积 硬度 耐蚀性 脉冲电流密度 |
Effects of Pulse Current Density on the Microstructure and Properties of Electrodeposited Nanocrystalline Nickel Coating |
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Abstract: | |
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Keywords: | nanocrystalline nickel coating pulse electrodeposition hardness corrosion resistance pulse current density |
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