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脉冲电流密度对纳米晶镍镀层结构及性能的影响
引用本文:朴楠,陈吉,孙彦伟,许志显,陈晓明,韩啸.脉冲电流密度对纳米晶镍镀层结构及性能的影响[J].电镀与环保,2016(2):4-7.
作者姓名:朴楠  陈吉  孙彦伟  许志显  陈晓明  韩啸
作者单位:1. 辽宁石油化工大学机械工程学院石油化工过程腐蚀与防护技术中心,辽宁抚顺,113001;2. 甘肃蓝科石化高新装备股份有限公司,甘肃兰州,730000
基金项目:辽宁省自然科学基金(201202127),辽宁省高等学校杰出青年学者成长计划项目(LJQ2011033)
摘    要:采用脉冲电沉积方法在黄铜基体上制备出致密、平整的纳米晶镍镀层。研究了脉冲电流密度对镀镍层的微观结构、硬度及耐蚀性的影响。结果表明:当脉冲电流密度为5A/dm~2时,镀镍层为(200)晶面择优;当脉冲电流密度增至10A/dm~2时,镀镍层变为(111)晶面择优;当脉冲电流密度继续增至20A/dm~2和30A/dm~2时,镀镍层变为(111)、(200)双向择优。随着脉冲电流密度的增大,镀镍层的晶粒尺寸略微减小,硬度逐渐增大,在3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性下降。脉冲电流密度为5A/dm~2时所得镀镍层的耐蚀性最好。

关 键 词:纳米晶镍镀层  脉冲电沉积  硬度  耐蚀性  脉冲电流密度

Effects of Pulse Current Density on the Microstructure and Properties of Electrodeposited Nanocrystalline Nickel Coating
Abstract:
Keywords:nanocrystalline nickel coating  pulse electrodeposition  hardness  corrosion resistance  pulse current density
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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