| 溶液雾化微波等离子体CVD法制备SrTiO3薄膜 |
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| 引用本文： | 季惠明,徐廷献,徐明霞.溶液雾化微波等离子体CVD法制备SrTiO3薄膜[J].硅酸盐学报,2002,30(3):398-401. |
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| 作者姓名： | 季惠明 徐廷献 徐明霞 |
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| 作者单位： | 天津大学高温结构陶瓷及工程陶瓷加工技术教育部重点实验室,天津,300072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助重大项目(59995520); 国家自然科学基金资助面上项目(50072014). |
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| 摘 要： | 研究了一种新型高效制备多组分陶瓷薄膜的方法，它采用可溶性无机盐溶液雾化为反应膜，利用微波等离子体化学气相沉积工艺在Al2O3基片上制备了SrTiO3基陶瓷薄膜，实验结果表明，薄膜沉积时衬底温度对成膜的相组成与结构产生重要影响，本实验中当沉积薄膜衬底温度在700℃时，可以制备出单一相组成，符合化学计量比，结晶性较好，晶粒度呈球形且均匀分布的SrTiO3薄膜，通过对不同氧分压下薄膜电阻测试，发现此SrTiO3薄膜在O2 N2气氛中氧浓度由1%变化到20%时，其电阻值由5.0MΩ变化到2.5MΩ，从而显示出一定氧敏性能。
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| 关 键 词： | CVD 溶液雾化 SrTiO3薄膜 微波等离子体 化学气相沉积 钛酸锶 氧敏特性 |
| 文章编号： | 0454-5648(2002)03-0398-04 |
| 修稿时间： | 2001年9月19日 |
PREPARATION OF SrTiO3 THIN FILM BY SOLUTION MIST SOURCE MICROWAVE PLASMA CVD METHOD |
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| JI Huiming,XU Tingxian,XU Mingxia.PREPARATION OF SrTiO3 THIN FILM BY SOLUTION MIST SOURCE MICROWAVE PLASMA CVD METHOD[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2002,30(3):398-401. |
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| Authors: | JI Huiming XU Tingxian XU Mingxia |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microwave plasma chemical vapor deposition strontium titanate thin film oxygen sensing |
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