预热片蔓延合成SiC粉末机理的研究 |
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引用本文: | 王铁军,王声宏.预热片蔓延合成SiC粉末机理的研究[J].硅酸盐学报,1998,26(2):237-242. |
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作者姓名: | 王铁军 王声宏 |
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摘 要: | 对预热SHS法合成SiC粉末所需的最低预热温度及产物粒度与反应物始粒度的关系等进行了研究。发现合成的SiC粉末的粒度与Si粉粒度无关,在此基础上对SiC的形成机制进行了探讨。在通氮气情况下,预热SHS-SiC反应中有一个β-Si3N4的生成过程,但生成的β-Si3N4在反应的高温下又很快分解。
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关 键 词: | 预热 自蔓延高温合成 碳化硅 粉末 |
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