| 等离子喷涂沉积Al2O3-SiO2涂层的光学性能 |
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| 引用本文： | 司先锋,马壮,高丽红,王富耻,朱时珍,刘玲,柳彦博.等离子喷涂沉积Al2O3-SiO2涂层的光学性能[J].硅酸盐学报,2019,47(2):236-242. |
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| 作者姓名： | 司先锋 马壮 高丽红 王富耻 朱时珍 刘玲 柳彦博 |
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| 作者单位： | 北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081;北京理工大学材料学院,北京 100081;冲击材料国家重点实验室,北京 100081 |
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| 摘 要： | 采用等离子喷涂技术制备Al_2O_3-SiO_2涂层,研究不同喷涂参数下颗粒熔融状态、微观结构、物相组成对涂层光学反射率的影响规律。结果表明:随着等离子喷涂功率的增加,颗粒熔融状态逐渐变得更加充分,Al_2O_3-SiO_2涂层中SiO_2部分由晶态向非晶态转变,部分Al_2O_3和SiO_2固相反应生成了Al_6Si_2O_(13),新相的产生将使得整个涂层材料体系的相组成更加复杂丰富,相界面增多,有利于涂层光学性能的提高。此外,在涂层的内部,层状结构的形成和孔隙率的增加均有益于涂层光学性能的提高。因此,粉末的熔融状态、涂层的微观结构和物相组成的优化对提高Al_2O_3-SiO_2涂层的光学性能提供了可能。
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| 关 键 词： | 等离子喷涂 氧化铝-氧化硅 光学性能 层状结构 孔隙率 |
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