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| 大规模集成电路对所用化学试剂和高纯水的要求 | |
| 引用本文： | 闻瑞梅.大规模集成电路对所用化学试剂和高纯水的要求[J].化学试剂,1992,14(1):20-24,35. |
| 作者姓名： | 闻瑞梅 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所 北京100083 |
| 摘 要： | 介绍了大规模集成电路对所用化学试剂和高纯水的要求。如快扩散杂质、碱金属、细菌、二氧化硅、总有机碳及颗粒等。对高纯水和化学试剂中不同的杂质在集成电路中的影响进行了讨论,并给出了高纯水的国家标准和国外对256K 至4M DRAM 用水质量的规格。 |
| 关 键 词： | 化学试剂 高纯水 LSIC |
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