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羧基配位剂对电镀镍–磷合金的影响
引用本文:周琦,杨彬彬,贺春林,杭康,杭冬良,俞丽华.羧基配位剂对电镀镍–磷合金的影响[J].电镀与涂饰,2014,33(20):867-869.
作者姓名:周琦  杨彬彬  贺春林  杭康  杭冬良  俞丽华
作者单位:1. 沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁沈阳,110159
2. 沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室,辽宁沈阳,110044
3. 江苏梦得电镀化学品有限公司,江苏丹阳,212341
基金项目:沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室开放基金
摘    要:以羧基类物质作配位剂,在A3钢板表面电沉积制备Ni–P合金镀层。镀液基础组成和工艺参数为:NiSO4·6H2O 240 g/L,NiCl2·6H2O 45 g/L,NaH2PO2·H2O 50 g/L,H3BO3 35 g/L,NaF30 g/L,pH 2.0,温度70°C,电流密度2.5 A/dm2,时间20 min。研究了镀液中羧基配位剂含量对Ni–P镀层沉积速率和耐蚀性的影响。结果表明,随羧基配位剂含量增大,沉积速率减小,镀层耐蚀性先改善后变差。其适宜含量为20~30 g/L。羧基配位剂含量为25 g/L时,镀层外观光亮、结合力良好,耐蚀性和耐磨性优于未加配位剂的镀层。镀层的P含量为18.11%,属于高磷非晶态Ni–P镀层。羧基配位剂具有细化镀层晶粒的作用,使镀层表面更为平整、致密。

关 键 词:镍–磷合金镀层  电镀  羧基配位剂  耐蚀性

Influence of carboxyl complexant on nickel-phosphorous alloy plating
ZHOU Qi,YANG Bin-bin,HE Chun-lin,HANG Kang,HANG Dong-liang,YU Li-hua.Influence of carboxyl complexant on nickel-phosphorous alloy plating[J].Electroplating & Finishing,2014,33(20):867-869.
Authors:ZHOU Qi  YANG Bin-bin  HE Chun-lin  HANG Kang  HANG Dong-liang  YU Li-hua
Affiliation:ZHOU Qi;YANG Bin-bin;HE Chun-lin;HANG Kang;HANG Dong-liang;YU Li-hua;School of Environment Chemical Engineering,Shenyang Ligong University;
Abstract:
Keywords:nickel-phosphorus alloy coating  electroplating  carboxyl complexant  corrosion resistance
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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