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N,N-二甲基甲酰胺体系电沉积铋?碲热电薄膜
引用本文:李菲晖,李智萌,侯文丽,高镜涵,巩运兰.N,N-二甲基甲酰胺体系电沉积铋?碲热电薄膜[J].电镀与涂饰,2022,41(3):153-159.
作者姓名:李菲晖  李智萌  侯文丽  高镜涵  巩运兰
作者单位:天津商业大学生物技术与食品科学学院,天津 300134
基金项目:天津市教委备案项目;国家自然科学基金
摘    要:

关 键 词:碲化铋  热电薄膜  电沉积  N  N-二甲基甲酰胺  电化学分析  扩散系数  表面形貌  组织结构

Electrodeposition of thermoelectric Bi-Te thin film in N,N-dimethylformamide solvent system
LI Feihui,LI Zhimeng,HOU Wenli,GAO Jinghan,GONG Yunlan.Electrodeposition of thermoelectric Bi-Te thin film in N,N-dimethylformamide solvent system[J].Electroplating & Finishing,2022,41(3):153-159.
Authors:LI Feihui  LI Zhimeng  HOU Wenli  GAO Jinghan  GONG Yunlan
Abstract:
Keywords:
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