基于NSGA-Ⅱ的面曝光3D打印工艺参数多目标优化 |
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引用本文: | 宗学文,韦毅博,刘亮晶.基于NSGA-Ⅱ的面曝光3D打印工艺参数多目标优化[J].塑料,2024(1):86-91+155. |
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作者姓名: | 宗学文 韦毅博 刘亮晶 |
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作者单位: | 1. 西安科技大学,机械工程学院;2. 比亚迪汽车有限公司 |
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摘 要: | 为改善面曝光3D打印制件的打印质量差、效率低等问题,采用非支配排序遗传算法(NSGA-Ⅱ)对工艺参数进行优化。选择温度、分层厚度、曝光时间、回合等待时间为优化变量,成型试样的变形率、表面硬度、时间为优化目标,通过单因素实验确定优化变量约束范围。根据Box-Behnken实验方案,建立各优化目标的预测模型,使用NSGA-Ⅱ算法进行多目标优化,规定优先精度、优先硬度、优先速度原则,按照不同优化原则分析帕累托前沿得到对应的最优工艺参数,并进行打印验证。结果表明,优先精度原则下,变形率最小值为0.508%,与优化前相比,降低了9.290%;优先硬度原则下,表面硬度最高达到95.3 HD,与优化前相比,提高了0.316%;在优先速度原则下,打印时间与优化前相比缩短了17.220%,优化效果显著。
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关 键 词: | 面曝光3D打印 工艺参数 非支配排序遗传算法 多目标优化 优化原则 |
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