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| 磁盘预光刻伺服图形离子刻蚀分析 | |
| 引用本文： | 罗敢,张彪,库少平.磁盘预光刻伺服图形离子刻蚀分析[J].信息记录材料,1997(1). |
| 作者姓名： | 罗敢 张彪 库少平 |
| 作者单位： | 华中理工大学 |
| 摘 要： | 用离子溅射对磁盘预光刻的何服图形进行干法刻蚀，得到了微米级和亚微米级凹坑的勾槽图形，这对超高记录密度磁盘驱动器的研究具有重要意义，为提高磁盘记录密度开辟了新途径 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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