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| 从第三届垂直磁记录国际会议看磁记录发展动态 | |
| 引用本文： | 潘国宏.从第三届垂直磁记录国际会议看磁记录发展动态[J].信息记录材料,1995(1). |
| 作者姓名： | 潘国宏 |
| 作者单位： | 北京大学物理系 |
| 摘 要： | 94年10月10～14日东京第三届垂直磁记录国际会议的规模虽不大，但比较集中地反映了垂直磁记录历经“高低高”，正走出低谷，采用接触记录和继承了薄膜集成微型磁头及复合镀膜磁记录介质等国际先进技术，在微型硬磁盘高密记录、实用化和产品化有所突破。并反映了磁记录正满怀信心地向10Gbpi2，基至Tbpi2的高记录密度进军，在一些新技术前沿方向活跃地积极深入研究和发展 |
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