氮偏压对α-GaAs_(1-x)N_x薄膜性能的影响 |
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引用本文: | 张丽明,王莹.氮偏压对α-GaAs_(1-x)N_x薄膜性能的影响[J].陕西化工,2012(4):588-590. |
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作者姓名: | 张丽明 王莹 |
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作者单位: | 商丘职业技术学院,河南商丘476000 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(60572001) |
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摘 要: | 采用磁控溅射方法在硅片上制备了不同氮偏压下的非晶GaAs1-xNx薄膜,结合拉曼光谱仪和椭偏仪等手段对样品进行了表征。结果表明,掺入氮气后,α-GaAs薄膜的拉曼光谱有明显变化;随着氮偏压的升高,α-GaAs1-xNx薄膜的折射率和消光系数逐渐减小,其峰值向短波长略微移动。另外,α-GaAs1-xNx薄膜在红外和近红外波段内几乎是透明的。
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关 键 词: | 磁控溅射 GaAs1-xNx薄膜 拉曼光谱仪 椭偏仪 |
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