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氮偏压对α-GaAs_(1-x)N_x薄膜性能的影响
引用本文:张丽明,王莹.氮偏压对α-GaAs_(1-x)N_x薄膜性能的影响[J].陕西化工,2012(4):588-590.
作者姓名:张丽明  王莹
作者单位:商丘职业技术学院,河南商丘476000
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60572001)
摘    要:采用磁控溅射方法在硅片上制备了不同氮偏压下的非晶GaAs1-xNx薄膜,结合拉曼光谱仪和椭偏仪等手段对样品进行了表征。结果表明,掺入氮气后,α-GaAs薄膜的拉曼光谱有明显变化;随着氮偏压的升高,α-GaAs1-xNx薄膜的折射率和消光系数逐渐减小,其峰值向短波长略微移动。另外,α-GaAs1-xNx薄膜在红外和近红外波段内几乎是透明的。

关 键 词:磁控溅射  GaAs1-xNx薄膜  拉曼光谱仪  椭偏仪
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