掺砷、掺磷及掺硼二氧化硅乳胶的化学分析 |
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引用本文: | 陈章强,朱英英,颜新贞,邱鹤钧.掺砷、掺磷及掺硼二氧化硅乳胶的化学分析[J].上海化工,1986(6). |
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作者姓名: | 陈章强 朱英英 颜新贞 邱鹤钧 |
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作者单位: | 上海化学试剂研究所,上海化学试剂研究所,上海化学试剂研究所,上海化学试剂研究所 |
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摘 要: | 前言二氧化硅乳胶是一种新型的液态扩散源,它已广泛应用于集成电路和半导体器件的生产上。例如,纯二氧化硅乳胶经氧化致密可作屏蔽层,掺砷二氧化硅乳胶可作模拟集成电路的埋层扩散源,掺磷二氧化硅乳胶可作为衬底扩散源,掺硼二氧化硅乳胶则可作为PNP管发射区的扩散源等等。使用这些新型液态扩散源,可使工业流程缩短,成品合格率提高。我们参照国外有关资料研制成功的此类二氧化硅乳
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