| 氯化钠和六偏磷酸钠对氧化铈抛光ZF7玻璃的协同增强作用 |
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| 引用本文： | 危亮华,傅毛生,李艳花,周雪珍,周新木,焦晓燕,李永绣.氯化钠和六偏磷酸钠对氧化铈抛光ZF7玻璃的协同增强作用[J].过程工程学报,2008,8(6):1241-1244. |
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| 作者姓名： | 危亮华 傅毛生 李艳花 周雪珍 周新木 焦晓燕 李永绣 |
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| 作者单位： | 南昌大学稀土与微纳功能材料研究中心,江西南昌,330030 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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江西省主要学科学术带头人计划
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江西省自然科学基金
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| 摘 要： | 研究了添加NaCl或(NaPO3)6的氧化铈浆料对ZF7光学玻璃抛光的材料去除速率(MRR)及对应的粒子表面Zeta电位和悬浮稳定性的影响. 结果表明，加入NaCl使CeO2浆料的抛光速率下降，而(NaPO3)6则可有效提高MRR；同时添加NaCl和(NaPO3)6对MRR值有明显的协同增强作用. 用原子力显微镜测定了最大MRR值(351.26 nm/min)时抛光玻璃的表面粗糙度Ra为0.799 nm，完全可以满足高质量玻璃抛光的要求，比未加添加剂的MRR(199.36 nm/min)和Ra(0.754 nm)分别提高了76.2%和5.97%. MRR与粒子表面Zeta电位呈线性关系，证明可通过合理构筑粒子表面双电层来提高表面电性，进而提高抛光效果.
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| 关 键 词： | 氧化铈 氯化钠 六偏磷酸钠 抛光 ZF7光学玻璃 |
| 收稿时间： | 2008-8-22 |
| 修稿时间： | 2008-10-8 |
Synergistic Enhancement of Sodium Chloride and Sodium Hexametaphosphate in Ceria Slurry to Material Removal Rate in Polishing of ZF7 Glass |
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| WEI Liang-hua,FU Mao-sheng,LI Yan-hua,ZHOU Xue-zhen,ZHOU Xin-mu,JIAO Xiao-yan,LI Yong-xiu.Synergistic Enhancement of Sodium Chloride and Sodium Hexametaphosphate in Ceria Slurry to Material Removal Rate in Polishing of ZF7 Glass[J].Chinese Journal of Process Engineering,2008,8(6):1241-1244. |
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| Authors: | WEI Liang-hua FU Mao-sheng LI Yan-hua ZHOU Xue-zhen ZHOU Xin-mu JIAO Xiao-yan LI Yong-xiu |
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| Affiliation: | WEI Liang-hua,FU Mao-sheng,LI Yan-hua,ZHOU Xue-zhen,ZHOU Xin-mu,JIAO Xiao-yan,LI Yong-xiu (Res. Center Rare Earths & Nano/micro Functional Mater.,Inst. Adv. Study,Nanchang Univ.,Nanchang,Jiangxi 330031,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ceria slurry NaCl (NaPO3)6 polishing ZF7 glass |
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