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| 光刻技术的挑战和解决思路 | |
| 引用本文： | 邵微,梁红波.光刻技术的挑战和解决思路[J].精细与专用化学品,2021,29(4):1-4. |
| 作者姓名： | 邵微 梁红波 |
| 作者单位： | 南昌航空大学材料科学与工程学院,江西南昌330063 |
| 摘 要： | 简介了光刻技术及其国内外发展现状,分析了我国光刻技术面临的挑战,从光刻胶、光刻机、政策和人才等4个方面提出了解决思路. |
| 关 键 词： | 光刻技术 光刻胶 光刻机 挑战 解决思路 |
Challenges and solutions of lithography |
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| SHAO Wei,LIANG Hong-bo.Challenges and solutions of lithography[J].Fine and Specialty Chemicals,2021,29(4):1-4. | |
| Authors: | SHAO Wei LIANG Hong-bo |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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