| Ti/BDD涂层电极的制备及其电化学性能研究 |
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| 引用本文： | 陈兴峰,左敦稳,卢文壮,徐锋. Ti/BDD涂层电极的制备及其电化学性能研究[J]. 硅酸盐通报, 2010, 29(4): 961-966 |
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| 作者姓名： | 陈兴峰 左敦稳 卢文壮 徐锋 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学机电学院,南京,210016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目，江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目 |
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| 摘 要： | 本文在热丝化学气相沉积(HFCVD)系统上,采用不同的工艺参数进行了钛衬底掺硼金刚石(Ti/BDD)涂层电极的制备试验,研究了衬底温度和碳源浓度对Ti/BDD涂层电极质量的影响,优化了制备Ti/BDD涂层电极的工艺条件.结果表明,沉积Ti/BDD涂层电极最合适的衬底温度为770 ℃,最适宜的C/H为2.0%.采用循环伏安法研究了用优化的工艺参数制备的Ti/BDD涂层电极的电化学性能,结果表明Ti/BDD涂层电势窗口宽、析氧电位高、背景电流小,是一种有广阔应用前景的电极材料.
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| 关 键 词： | Ti/BDD涂层电极 衬底温度 碳源浓度 电化学性能, |
Preparation and Electrochemical Performance of Ti/BDD Coating Electrode |
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| CHEN Xing-feng,ZUO Dun-wen,LU Wen-Zhuang,XU Feng. Preparation and Electrochemical Performance of Ti/BDD Coating Electrode[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 2010, 29(4): 961-966 |
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| Authors: | CHEN Xing-feng ZUO Dun-wen LU Wen-Zhuang XU Feng |
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