| 退火工艺对Nd掺杂Ca0．4Sr0．6Bi4Ti4O15薄膜的性能影响 |
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| 引用本文： | 张伟.退火工艺对Nd掺杂Ca0．4Sr0．6Bi4Ti4O15薄膜的性能影响[J].山东建筑大学学报,2009,24(6):539-542. |
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| 作者姓名： | 张伟 |
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| 作者单位： | 山东英才学院,建筑工程学院,山东,济南,250104 |
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| 摘 要： | 利用Sol-Gel法、快速退火工艺在Pt(100)/Ti/SiO2/Si衬底上成功制备了Nd掺杂的Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15(C0.4S0.6NT)铁电薄膜.分别研究了退火工艺中热解温度、退火温度对C0.4S0.6NT薄膜取向及铁电性能的影响,并探讨了C0.4S0.6NT薄膜取向生长的微观机制.XRD衍射分析表明:350℃热分解温度得到的薄膜I(200)/I(119)达到最大;退火温度达到700℃,薄膜中的Bi2Ti2O7相全部转化成铋层状钙钛矿相;P-E电学性能测试显示:退火温度高有助于提高薄膜的剩余极化(Pr);350℃热分解温度,750℃退火温度得到高(200)取向的薄膜,铁电性能较好,Pr 和Ec分别为14.2μC/cm2和84.5kV/cm.
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| 关 键 词： | C0.4S0.6NT薄膜 Nd掺杂 Sol-Gel法 取向 性能 |
Effect of annealing process on properties of Nd doping Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 ferroelectric film |
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| ZHANG Wei.Effect of annealing process on properties of Nd doping Ca0.4Sr0.6Bi4Ti4O15 ferroelectric film[J].Journal of Shandong Institute of Architecture and Engineering,2009,24(6):539-542. |
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| Authors: | ZHANG Wei |
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