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| 磁流变抛光D型去除函数创成机制数值分析 | |
| 作者单位： | ;1.遵义师范学院工学院;2.中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;3.华中光电技术研究所武汉光电国家实验室 |
| 摘 要： | 磁流变抛光技术是超精密光学元件制造的最终工艺环节。为了进一步研究在磁流变抛光过程中,当工件的嵌入深度不同时,其去除函数对抛光区域内磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响,作者通过开展数值计算对相关参数进行试验、分析,探明了在磁流变抛光过程中,其加工工件的嵌入深度不同对磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响机制,得出了当加工工件的嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光液的压力会随其变深而增大、磁流变抛光液的运动速度相反会随其变深而逐渐减小、磁流变抛光液的密度会随其变深而逐渐增大的结论。 |
| 关 键 词： | 数值计算 磁流变抛光 D型去除函数 创成机制 数值分析 |
Numerical Analysis of Generating Mechanism of D-type Removal Function in Magnetorheological Polishing |
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