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RTV和增爬裙对支柱绝缘子电场和电位分布影响的研究
引用本文:徐志钮,律方成,李和明,金虎.RTV和增爬裙对支柱绝缘子电场和电位分布影响的研究[J].华北电力大学学报,2010,37(4).
作者姓名:徐志钮  律方成  李和明  金虎
基金项目:国家重点基础研究发展计划资助项目(973项目)
摘    要:RTV涂层和增爬裙在电力系统外绝缘中多有应用,研究其对电场、电位的影响对施工以及运行都具有指导意义。以110 kV瓷支柱绝缘子为例,在ANSYS中建立了其真实模型,基于静电场有限元分析了RTV涂层厚度,增爬裙的数目、位置、形状对最大电场、沿绝缘子表面场强/电位的影响。结果表明:RTV涂层和增爬裙不改变电场和电位的整体分布,有RTV涂层后场强略有下降,随RTV涂层厚度的增加最大场强和沿面场强略有下降;随着增爬裙片数、位置、厚度和外径的变化沿面场强/电位有所变化,且随其外径和高场强区片数的增加沿面场强减少更明显。所得结果对RTV涂层和增爬裙的应用具有一定指导意义。

关 键 词:支柱绝缘子  电场分布  电位分布  RTV  增爬裙

Influence of RTV and booster shed on electric field and potential distribution of post insulator
XU Zhi-niu,LV Fang-cheng,LI He-ming,JIN Hu.Influence of RTV and booster shed on electric field and potential distribution of post insulator[J].Journal of North China Electric Power University,2010,37(4).
Authors:XU Zhi-niu  LV Fang-cheng  LI He-ming  JIN Hu
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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