| Al-Si合金Al2O3-ZrO2微弧氧化涂层生长机理研究 |
| |
| 引用本文： | 赵玉厚,王少青,王萍,陈庆荣,米巧艳.Al-Si合金Al2O3-ZrO2微弧氧化涂层生长机理研究[J].西安工业大学学报,2013(2):140-145. |
| |
| 作者姓名： | 赵玉厚 王少青 王萍 陈庆荣 米巧艳 |
| |
| 作者单位： | 西安工业大学材料与化工学院 |
| |
| 基金项目： | 陕西省自然科学研究项目(2004A18);陕西省教育厅专项科研计划项目(2010JK585) |
| |
| 摘 要： | 为了解决Al2O3微弧氧化层不能满足Al-Si合金使用要求的问题,采用微弧氧化法在Al-Si合金表面制备了Al2O3-ZrO2复合膜层,通过SEM、XRD分析测试手段研究膜层的微观表面形貌、组织结构和相组成.结果显示:微弧氧化初期,陶瓷层生长速率较快且反应速率稳定,反应后期陶瓷层生长速率减缓;陶瓷层微观表面形貌比较均匀,有部分放电微孔和裂纹;陶瓷层与金属基体呈犬牙状交错结合;陶瓷层的主要相组成是t-ZrO2、α?Al2O3、m-ZrO2、γ?Al2O3,其中t-ZrO2为膜层主晶相.并根据实验结果研究了微弧氧化涂层的生长机理.
|
| 关 键 词： | Al-Si合金 Al2O3-ZrO2复合膜层 微弧氧化 生长机理 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
|
