| 重掺杂Bi:YIG溅射薄膜的磁和磁光性能 |
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| 引用本文： | 谢红辉,刘颖力,杨青慧.重掺杂Bi:YIG溅射薄膜的磁和磁光性能[J].磁性材料及器件,2007,38(4):28-30. |
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| 作者姓名： | 谢红辉 刘颖力 杨青慧 |
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| 作者单位： | 1. 东北电力大学,信息工程学院,吉林长春,132012
2. 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054 |
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| 摘 要： | 用磁控溅射 快速退火晶化处理在YAG、Al2O3基片上制备了重掺杂Bi:YIG磁光薄膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、磁光克尔仪/光学分度计、振动样品磁强计(VSM)分别研究了薄膜的微结构、磁光性能和磁性能.薄膜的饱和磁化强度为135～139 kA/m,不同基片上制备的薄膜的矫顽力不同,薄膜的法拉第角在450～610nm的光波段范围内约为3～5°/μm;当退火温度在600℃时,在两种基片上制备的薄膜透射率谱非常相似,当退火温度为800℃时,在Al2O3基片上的薄膜透射率谱将出现一个台阶.
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| 关 键 词： | Bi:YIG薄膜 结构 磁性能 磁光性能 |
| 文章编号： | 1001-3830（2007）04-0028-03 |
| 修稿时间： | 2007-01-09 |
The Magnetic and Magneto-optical Properties of Heavily Bi-Doped YIG (Bi: YIG) Sputtering Film Annealed by RTA Method |
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| XIE Hong-hui,LIU Ying-li,YANG Qing-hui.The Magnetic and Magneto-optical Properties of Heavily Bi-Doped YIG (Bi: YIG) Sputtering Film Annealed by RTA Method[J].Journal of Magnetic Materials and Devices,2007,38(4):28-30. |
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| Authors: | XIE Hong-hui LIU Ying-li YANG Qing-hui |
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| Affiliation: | 1 School of Information Engineering, Northeast Dianli University, Jilin 132012, China; 2, State Key Laboratory of Electronic Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology, Chengdu 610054, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Bi: YIG film microstructure magnetic properties magneto-optic properties |
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