交流和纳秒脉冲激励氦气中等离子体 射流阵列放电特性比较 |
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引用本文: | 张波,汪立峰,刘峰,万梦,方志.交流和纳秒脉冲激励氦气中等离子体 射流阵列放电特性比较[J].电工技术学报,2019,34(6). |
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作者姓名: | 张波 汪立峰 刘峰 万梦 方志 |
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作者单位: | 南京工业大学电气工程与控制科学学院 南京 211816;南京工业大学电气工程与控制科学学院 南京 211816;南京工业大学电气工程与控制科学学院 南京 211816;南京工业大学电气工程与控制科学学院 南京 211816;南京工业大学电气工程与控制科学学院 南京 211816 |
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基金项目: | 国家自然科学基金;国家自然科学基金;江苏省研究生科研与实践创新计划项目 |
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摘 要: | 为获得大气压下均匀稳定的大尺度低温等离子体射流,用交流(AC)和纳秒(ns)脉冲电源激励在氦气中产生一维射流阵列放电,比较两种电源激励射流阵列的放电均匀性、瞬时功率、平均功率和发射光谱强度等放电特性和参量,并通过拍摄气流通道的纹影图像和估算射流单元之间的库仑力作用,研究和分析射流阵列的射流单元之间的流场和电场相互作用。结果表明,采用ns脉冲电源可以有效地提高射流阵的均匀性,增加等离子体羽长度、瞬时功率和粒子谱线强度,降低平均功率。不同于AC激励射流阵列,ns脉冲激励的射流阵列中两侧的射流单元几乎不发生偏转。采用ns脉冲激励可以同时减少气体加热作用和库仑力的排斥作用,从而有效地抑制射流单元之间的流场和电学相互作用,是提高射流阵列均匀性的主要原因。
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关 键 词: | 等离子体射流 射流阵列 高频交流 ns脉冲 放电特性 均匀性 |
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