| 栅片灭弧室灭弧效率的耦合仿真及其测量方法 |
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| 引用本文： | 吴桂初,章上聪,舒亮.栅片灭弧室灭弧效率的耦合仿真及其测量方法[J].电子测量与仪器学报,2015,29(5):739-747. |
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| 作者姓名： | 吴桂初 章上聪 舒亮 |
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| 作者单位： | 温州大学浙江省低压电器智能技术重点实验室 温州 325000 |
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| 基金项目： | 浙江省重点科技创新团队，浙江省“钱江人才计划”D类计划(QJD1302003)项目 |
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| 摘 要： | 研究了栅片灭弧室中面向不规则导体的电-磁耦合瞬态建模方法,通过该模型分别求解了栅片灭弧室的稳态和瞬态响应过程。为对模型进行验证,建立了一套可以对栅片灭弧室灭弧效率直接进行测量和评估的测试系统,通过数控瞬时恒流源提供激励电流,利用不同空间位置分布的霍尔芯片,对断路器灭弧室内的磁感应强度进行直接测量,并对其灭弧效率进行计算。试验结果显示所建立的耦合模型可以较好预测栅片灭弧室中的磁通密度大小及其分布。在此基础上研究了不同磁导率和电导率对于灭弧室效率的影响。仿真结果表明,栅片灭弧效率随着栅片磁导率的增大而增加。进一步提高栅片的磁导率,其灭弧效率趋近饱和。当电导率处于较小值时,对栅片灭弧室的效率影响较小;进一步增大栅片的电导率,其灭弧效率将会降低。提高灭弧栅片的电导率可以减小灭弧室内吹弧磁场和磁吹弧力的瞬态响应峰值,增大其瞬态响应时间。
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| 关 键 词： | 栅片灭弧室 灭弧效率 霍尔传感器 数控恒流源 耦合仿真 |
Coupled simulation for efficiency of plates chamber and its measurement method |
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| Wu Guichu,Zhang Shangcong,Shu Liang.Coupled simulation for efficiency of plates chamber and its measurement method[J].Journal of Electronic Measurement and Instrument,2015,29(5):739-747. |
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| Authors: | Wu Guichu Zhang Shangcong Shu Liang |
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| Affiliation: | The Key Laboratory of Low Voltage Apparatus Intellectual Technology of Zhejiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plates chamber efficiency Hall sensor digital-controlled current source coupled simulation |
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