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功率半导体器件栅氧化层状态监测方法综述与展望
引用本文:何怡刚,孙豪,袁伟博,张学勤.功率半导体器件栅氧化层状态监测方法综述与展望[J].电子测量与仪器学报,2021,35(11):1-11.
作者姓名:何怡刚  孙豪  袁伟博  张学勤
作者单位:合肥工业大学电气与自动化工程学院合肥230000
基金项目:国家自然科学基金(51977153,51977161,51577046)、国家自然科学基金重点项目(51637004)、国家重点研发计划“重大科学仪器设备开发”项目(2016YFF0102200)、装备预先研究重点项目(41402040301)资助
摘    要:功率半导体器件栅极氧化层退化对功率器件的正常运行产生严重影响,不同偏置应力导致栅氧化层退化形式不同,故栅氧化层的状态监测研究对确保功率器件的高可靠性具有重要意义。从栅氧化层退化的微观机理出发,建立相关特征参数与栅氧化层退化的精确函数关系,在栅氧化层退化的情况下对特征参数漂移量进行检测可以实现对功率器件栅氧化层的状态监测。围绕退化特征参数和退化模型方面的国内外研究,分类讨论基于阈值电压、米勒效应参数等状态监测方法的最新进展,并着重对栅氧化层状态监测方法的性能进行分析和对比。在此基础上,结合功率器件发展和应用趋势,展望了功率半导体器件栅氧化层状态监测的研究方向。

关 键 词:功率半导体器件  MOSFET  IGBT  栅氧化层  米勒效应  状态监测

Review and prospect for condition monitoring method of power semiconductor devices gate oxide
He Yigang,Sun Hao,Yuan Weibo,Zhang Xueqin.Review and prospect for condition monitoring method of power semiconductor devices gate oxide[J].Journal of Electronic Measurement and Instrument,2021,35(11):1-11.
Authors:He Yigang  Sun Hao  Yuan Weibo  Zhang Xueqin
Institution:School of Electrical Engineering and Automation, Hefei University of Technology, Hefei 230000, China
Abstract:
Keywords:power semiconductor devices  MOSFET  IGBT  gate oxide  miller effect  condition monitoring
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